
光刻机应用广泛,包括IC前道光刻机、用于封装的后道光刻机以及用于于LED领域及面板领域的光刻机等等。封装光刻机对于光刻的精度要求低于前道光刻要求,面板光刻机与IC前道光刻机工艺相比技术精度也更低,一般为微米级。
IC前道光刻机技术最为复杂,光刻工艺是IC制造的核心环节,利用光刻技术可以将掩模版上的芯片电路图转移到硅片上。光刻机是一种投影曝光系统,包括光源、光学镜片、对准系统等。在制造过程中,通过投射光束,穿过掩膜板和光学镜片照射涂敷在基底上的光敏性光刻胶,经过显影后可以将电路图最终转移到硅晶圆上。
本研究报告数据主要采用国家统计数据,海关总署,问卷调查数据,商务部采集数据等数据库。其中宏观经济数据主要来自国家统计局,部分行业统计数据主要来自国家统计局及市场调研数据,企业数据主要来自于国统计局规模企业统计数据库及证券交易所等,价格数据主要来自于各类市场监测数据库。
报告目录
第一部分光刻机行业整体宏观分析
第一章光刻机行业概况
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤 ,耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现,光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行 20-30 次的光刻,耗时占到 IC 生产环节的 50%左右,占芯片生产成本的 1/3。
光刻 的 原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶,就实现了电路图从掩模到硅片的转移。
光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀,最后洗去剩余光刻胶,就实现了半导体器件在硅片表面的构建过程。光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。光刻机的最小分辨率由公示 R=kλ/NA,其中 R 代表可分辨的最小尺寸,对于光刻技术来说,R 越小越好;k 是工艺常数;λ 是光刻机所用光源的波长;NA 代表物镜数值孔径,与光传播介质的折射率相关,折射率越大,NA 越大。光刻机制程工艺水平的发展均遵循以上公式。此外,光刻机的内部构造和工作模式也在发展,不断提升芯片的生产效率和良率。
根据所使用的光源的改进,光刻机经历了 5 代产品的发展,每次光源的改进都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。此外双工作台、沉浸式光刻等新型光刻技术的创新与发展也在不断提升光刻机的工艺制程水平,以及生产的效率和良率。
光刻机的发展历程
第一节 产品定义及概况
第二节 产品应用及用途分析
第三节 行业发展周期
第二章2018年光刻机行业发展环境分析
第一节 中国经济发展环境分析
一、中国GDP增长情况分析
二、工业经济发展形势分析
三、全社会固定资产投资分析
四、城乡居民收入与消费分析
五、对外贸易的发展形势分析
六、国内宏观经济发展预测
第二节 中国光刻机行业政策环境分析
一、产业政策深度分析
二、上下游产业政策影响
三、进出口政策影响分析
第三节 中国光刻机行业技术环境分析
一、光刻机技术发展概况
二、光刻机技术工艺流程研究
二、光刻机技术工艺方案及最优选择
第三章2018年光刻机产业链分析
第一节 光刻机产业链概述
第二节 光刻机上游产业发展状况分析
一、上游原材料生产情况分析
二、上游原材料价格走势分析
三、上游原材料行业发展趋势
第三节 光刻机下游产业发展情况分析
一、行业发展现状概况
二、行业生产情况分析
三、行业需求状况分析
四、行业需求前景分析
第四节 光刻机产业链机会分析
一、所处产业链价值链分析
二、光刻机产业链机会点分析及产业投资价值研究
第二部分光刻机行业供需及进出口分析
第四章光刻机行业生产与需求分析
第一节 生产分析
一、2015-2018年光刻机行业生产总量及增速
二、2015-2018年光刻机行业产能及增速
三、国内外经济形势对光刻机行业生产的影响
四、2019-2025年光刻机行业生产总量及增速预测
第二节 需求分析
一、2015-2018年光刻机行业需求总量及增速
二、国内外经济形势对光刻机行业需求的影响
三、2019-2025年光刻机行业需求总量及增速预测
第三节 行业供需平衡分析
一、2018年光刻机行业供需平衡现状
二、国内外经济形势对光刻机行业供需平衡的影响
三、2019-2025年光刻机行业供需平衡趋势预测
第五章2018年光刻机市场需求分析
第三部分光刻机行业竞争深度分析
第六章2015-2018年光刻机行业竞争分析
第一节 行业竞争结构分析
一、现有企业间竞争
二、潜在进入者分析
三、替代品威胁分析
四、供应商议价能力
五、客户议价能力
第二节 行业集中度分析
一、市场集中度分析
二、企业集中度分析
三、区域集中度分析
第三节 行业国际竞争力比较
一、生产要素
二、需求条件
三、支援与相关产业
四、企业战略、结构与竞争状态
五、政府的作用
第四节 光刻机行业主要企业竞争力分析
一、重点企业资产总计对比分析
二、重点企业从业人员对比分析
三、重点企业全年营业收入对比分析
四、重点企业出口交货值对比分析
五、重点企业利润总额对比分析
六、重点企业综合竞争力对比分析
第五节 2018年光刻机行业竞争格局分析
一、2018年光刻机行业竞争分析
二、2018年中外光刻机产品竞争分析
三、2015-2018年国内外光刻机竞争分析
四、2015-2018年我国光刻机市场竞争分析
五、2015-2018年我国光刻机市场集中度分析
六、2015-2018年国内主要光刻机企业动向
第七章光刻机主要生产厂商竞争力分析
第一节 ASML
一、企业发展基本情况
二、企业主要经济指标
三、企业偿债能力分析
四、企业盈利能力分析
五、企业运营能力分析
六、企业核心竞争力分析
第二节 尼康(Nikon)
一、企业发展基本情况
二、企业主要经济指标
三、企业偿债能力分析
四、企业盈利能力分析
五、企业运营能力分析
六、企业核心竞争力分析
第三节 佳能(Canon)
一、企业发展基本情况
二、企业主要经济指标
三、企业偿债能力分析
四、企业盈利能力分析
五、企业运营能力分析
六、企业核心竞争力分析
第四节 上海微电子
第四部分光刻机行业发展预测分析
第八章光刻机行业发展趋势分析
第一节 2018年发展环境展望
一、2018年宏观经济形势展望
二、2018年政策走势及其影响
第二节 2018年光刻机行业发展趋势分析
一、2018年技术发展趋势分析
二、2018年产品发展趋势分析
三、2018年行业竞争格局展望
第三节 2019-2025年中国光刻机市场趋势分析
一、2019-2025年光刻机市场趋势总结
二、2019-2025年光刻机发展趋势分析
三、2019-2025年光刻机市场发展空间
四、2019-2025年光刻机产业政策趋向
五、2019-2025年光刻机技术革新趋势
六、2019-2025年光刻机价格走势分析
第九章未来光刻机行业发展预测
第一节 未来光刻机需求与消费预测
一、2019-2025年光刻机产品消费预测
二、2019-2025年光刻机市场规模预测
三、2019-2025年光刻机行业总产值预测
四、2019-2025年光刻机行业销售收入预测
五、2019-2025年光刻机行业总资产预测
第二节 2019-2025年中国光刻机行业供需预测
一、2019-2025年中国光刻机供给预测
二、2019-2025年中国光刻机产量预测
三、2019-2025年中国光刻机需求预测
四、2019-2025年中国光刻机供需平衡预测
五、2019-2025年中国光刻机产品价格预测
第五部分光刻机行业投融资及盈利模式分析
第十章光刻机行业投资现状分析
第一节 2018年光刻机行业投资情况分析
一、2018年总体投资及结构
二、2018年投资规模情况
三、2018年投资增速情况
四、2018年分行业投资分析
五、2018年分地区投资分析
六、2018年外商投资情况
第二节 2018年最新光刻机行业投资情况分析
一、2018年总体投资及结构
二、2018年投资规模情况
三、2018年投资增速情况
四、2018年分行业投资分析
五、2018年分地区投资分析
六、2015-2018年外商投资情况
第十一章光刻机行业投资环境分析
第一节 经济发展环境分析
一、2018年我国宏观经济运行情况
二、2015-2018年我国宏观经济形势分析
三、2019-2025年投资趋势及其影响预测
第二节 政策法规环境分析
一、2018年光刻机行业政策环境
二、2018年国内宏观政策对其影响
三、2018年行业产业政策对其影响
第三节 社会发展环境分析
一、国内社会环境发展现状
二、2018年社会环境发展分析
三、2018年社会环境对行业的影响
第十二章光刻机行业投资机会与风险
第一节 行业活力系数比较及分析
一、2018年相关产业活力系数比较
二、2018年行业活力系数分析
第二节 行业投资收益率比较及分析
一、2018年相关产业投资收益率比较
二、2018年行业投资收益率分析
第三节 光刻机行业投资效益分析
一、2018年光刻机行业投资状况分析
二、2018年光刻机行业投资效益分析
三、2019-2025年光刻机行业投资趋势预测
四、2019-2025年光刻机行业的投资方向
五、2019-2025年光刻机行业投资的建议
六、新进入者应注意的障碍因素分析
第四节 影响光刻机行业发展的主要因素
一、2015-2018年影响光刻机行业运行的有利因素分析
二、2015-2018年影响光刻机行业运行的稳定因素分析
三、2019-2025年影响光刻机行业运行的不利因素分析
四、2015-2018年我国光刻机行业发展面临的挑战分析
五、2019-2025年我国光刻机行业发展面临的机遇分析
第五节 光刻机行业投资风险及控制策略分析
一、2015-2018年光刻机行业市场风险及控制策略
二、2015-2018年光刻机行业政策风险及控制策略
三、2015-2018年光刻机行业经营风险及控制策略
四、2015-2018年光刻机行业技术风险及控制策略
五、2015-2018年光刻机同业竞争风险及控制策略
六、2015-2018年光刻机行业其他风险及控制策略
第十三章光刻机行业盈利模式与投资策略分析
第一节 国外光刻机行业投资现状及经营模式分析
一、境外光刻机行业成长情况调查
二、经营模式借鉴
三、在华投资新趋势动向
第二节 我国光刻机行业商业模式探讨
第三节 我国光刻机行业投资国际化发展战略分析
一、战略优势分析
二、战略机遇分析
三、战略规划目标
四、战略措施分析
第四节 最优投资路径设计
一、投资对象
二、投资模式
三、预期财务状况分析
四、风险资本退出方式
第十四章光刻机项目融资问题分析与专家建议
第一节 光刻机项目的融资演变
第二节 光刻机项目特点、融资特点及影响因素分析
一、光刻机及其项目的主要特点
二、光刻机项目的融资特点
三、光刻机项目的融资相关影响因素
第三节 光刻机项目的融资对策
一、从产业链的整体考虑项目的融资
二、从产业链的三个环节 考虑项目的融资
三、采用多种形式进行项目融资
四、本国筹资的重要性
五、有效吸引私人投资
六、政府的政策支持
第四节 专家建议
第十五章光刻机企业投融资战略规划分析
第一节 光刻机企业发展战略规划背景意义(AK LY)
一、企业转型升级的需要
二、企业强做大做的需要
三、企业可持续发展需要
第二节 光刻机企业发展战略规划的制定原则
一、科学性
二、实践性
三、前瞻性
四、创新性
五、全面性
六、动态性
第三节 光刻机企业战略规划制定依据
一、国家产业政策
二、行业发展规律
三、企业资源与能力
四、可预期的战略定位
第四节 光刻机企业战略规划策略分析
一、战略综合规划
二、技术开发战略
三、区域战略规划
四、产业战略规划
五、营销品牌战略
六、竞争战略规划
第十六章行业投资分析及风险规避建议
图表目录
图表 1 生命周期各发展阶段的影响
图表 2 2018年份规模以上工业生产主要数据
图表 3 2018年份固定资产投资(不含农户)主要数据
图表 4 2018年居民人均可支配收入平均数与中位数
图表 5 2018年居民人均消费支出及构成
图表 6 2018年全国居民收支主要数据
图表 7中国集成电路行业主要政策汇总(一)
图表 8 中国集成电路行业主要政策汇总(二)
图表 9 《国家集成电路产业发展推进纲要》解读
图表 10 2018年地方政府集成电路产业基金规模(亿元)
更多图表见正文……
研究方法
报告研究基于研究团队收集的大量一手和二手信息,使用桌面研究与定量调查、定性分析相结合的方式,全面客观的剖析当前行业发展的总体市场容量、产业链、竞争格局、进出口、经营特性、盈利能力和商业模式等。科学使用SCP模型、SWOT、PEST、回归分析、SPACE矩阵等研究模型与方法综合分析行业市场环境、产业政策、竞争格局、技术革新、市场风险、行业壁垒、机遇以及挑战等相关因素。根据各行业的发展轨迹及实践经验,对行业未来的发展趋势做出客观预判,助力企业商业决策。
数据来源
本公司数据来源主要是一手资料和二手资料相结合,本司建立了严格的数据清洗、加工和分析的内控体系,分析师采集信息后,严格按照公司评估方法论和信息规范的要求,并结合自身专业经验,对所获取的信息进行整理、筛选,最终通过综合统计、分析测算获得相关产业研究成果。
一手资料来源于我司调研部门对行业内重点企业访谈获取的一手信息数据,采访对象涉及企业CEO、营销总监、高管、技术负责人、行业专家、产业链上下游企业、分销商、代理商、经销商、相关投资机构等。市场调研部分的一手信息来源为需要研究的对象终端消费群体。
二手资料来源主要包括全球范围相关行业新闻、公司年报、非盈利性组织、行业协会、政府机构、海关数据及第三方数据库等,根据具体行业,应用的二手信息来源具有一定的差异。二手信息渠道涉及SEC、公司年报、国家统计局、中国海关、WIND数据库、CEIC数据库、国研网、BvD ORBIS ASIA PACIFIC数据库、皮书数据库及中经专网、国家知识产权局等。
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